Object

Title: Microstructure and Residual Stress Measurement of Ag/Glass Thin Films Using In-Situ High-Temperature X-ray Diffraction

Հրապարակման մանրամասներ:

Established in 2008

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics=Ֆիզիկայի հայկական հանդես

Հրապարակման ամսաթիվ:

2016

Հատոր:

9

Համար:

1

ISSN:

1829-1171

Պաշտոնական URL:


Համատեղ հեղինակները:

Department of Physics, Faculty of Science, Arak University, Arak, 38156-8-8349, Iran

Ծածկույթ:

15-19

Ամփոփում:

In this study pure Ag particles were deposited on the glass substrate using DC magnetron sputtering at room temperature and Ag thin film with 80nm thickness was prepared. To investigation the effect of high temperature on the crystal structure of Ag thin film, an in-situ HT-XRD instrument has been used. Microstructural properties of Ag thin film have been studied in several temperatures. Micrograin size of different atomic planes of Ag thin film during HT-XRD process was calculated. Residual stress of as-deposited and post annealed Ag thin film at (111) planes was measured using Sin2ψ method.

Ստեղծման ամսաթիվը:

2016-03-19

Ձևաչափ:

pdf

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23418

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Object collections:

Last modified:

Dec 13, 2023

In our library since:

Feb 27, 2020

Number of object content hits:

47

All available object's versions:

https://arar.sci.am/publication/26171

Show description in RDF format:

RDF

Show description in OAI-PMH format:

OAI-PMH

Objects

Similar

This page uses 'cookies'. More information