Նիւթ

Վերնագիր: Microstructure and Residual Stress Measurement of Ag/Glass Thin Films Using In-Situ High-Temperature X-ray Diffraction

Հրապարակման մանրամասներ:

Established in 2008

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics=Ֆիզիկայի հայկական հանդես

Հրապարակման ամսաթիվ:

2016

Հատոր:

9

Համար:

1

ISSN:

1829-1171

Պաշտոնական URL:


Համատեղ հեղինակները:

Department of Physics, Faculty of Science, Arak University, Arak, 38156-8-8349, Iran

Ծածկույթ:

15-19

Ամփոփում:

In this study pure Ag particles were deposited on the glass substrate using DC magnetron sputtering at room temperature and Ag thin film with 80nm thickness was prepared. To investigation the effect of high temperature on the crystal structure of Ag thin film, an in-situ HT-XRD instrument has been used. Microstructural properties of Ag thin film have been studied in several temperatures. Micrograin size of different atomic planes of Ag thin film during HT-XRD process was calculated. Residual stress of as-deposited and post annealed Ag thin film at (111) planes was measured using Sin2ψ method.

Ստեղծման ամսաթիվը:

2016-03-19

Ձևաչափ:

pdf

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23418

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Նիւթին հաւաքածոները:

Վերջին անգամ ձեւափոխուած է:

Dec 13, 2023

Մեր գրադարանին մէջ է սկսեալ:

Feb 27, 2020

Նիւթին բովանդակութեան հարուածներուն քանակը:

35

Նիւթին բոլոր հասանելի տարբերակները:

https://arar.sci.am/publication/26171

Ցոյց տուր նկարագրութիւնը RDF ձեւաչափով:

RDF

Ցոյց տուր նկարագրութիւնը OAI-PMH ձեւաչափով։

OAI-PMH

Օբյեկտի տեսակ՝

Նման

Այս էջը կ'օգտագործէ 'cookie-ներ'։ Յաւելեալ տեղեկատուութիւն