Digital Repository of the Institute of Radiophysics and Electronics
Исследование стабильности процесса согласования радиочастотной плазмы ; Investigation of the stability of impedance matching process for RF originated plasma
ՀՀ Կրթության և Գիտության նախարարություն ; Երևանի պետական համալսարան
Գիտական ղեկավար՝ ֆիզ. մաթ. գիտ. թ․ Տ. Վ. Զաքարյան
Целью данной работы является исследование стабильности процесса согласования радиочастотной плазмы, что позволяет увеличить эффективность и предсказуемость процесса производства полупроводниковых приборов. The aim of this dissertation is to research the stability of the process of matching the radio-frequency originated plasma, which increases the efficiency and predictability of semiconductor devices manufacturing. To reach the stated aim, the following objectives have been set.
Երևան
oai:arar.sci.am:265032
Jan 13, 2021
Jan 13, 2021
17
https://arar.sci.am/publication/288645
Հրատարակութեան անունը | Թուական |
---|---|
Սարգսյան, Սարգիս Թադևոսի, Ռադիոհաճախային պլազմայի իմպեդանսի համաձայնեցման պրոցեսի կայունության ուսումնասիրումը | Jan 13, 2021 |