Հրապարակման մանրամասներ:

Established in 2008

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics=Ֆիզիկայի հայկական հանդես

Հրապարակման ամսաթիվ:

2009

Հատոր:

2

Համար:

1

ISSN:

1829-1171

Պաշտոնական URL:

Ծածկույթ:

80-81

Ամփոփում:

The implementation of wave methods to obtain the image of topological layers with regular decrease of the wavelength of the exposing (actinic) radiation turns to be the basis of micro(nano)electronics progress for its almost half a century rapid development. The limitation of resolution of optical photolithography, described by Fresnel relations for contact lithography and Rayleigh-Abby criteria for projection lithography, were resolved consequently by the transfer to projection optics with the application of DUV.

Ստեղծման ամսաթիվը:

2009-04-09

Ձևաչափ:

pdf

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23226

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան