Հրապարակման մանրամասներ:

Established in 2008

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics=Ֆիզիկայի հայկական հանդես

Հրապարակման ամսաթիւ:

2009

Հատոր:

2

Համար:

1

ISSN:

1829-1171

Պաշտոնական URL:

Ծածկոյթ:

80-81

Ամփոփում:

The implementation of wave methods to obtain the image of topological layers with regular decrease of the wavelength of the exposing (actinic) radiation turns to be the basis of micro(nano)electronics progress for its almost half a century rapid development. The limitation of resolution of optical photolithography, described by Fresnel relations for contact lithography and Rayleigh-Abby criteria for projection lithography, were resolved consequently by the transfer to projection optics with the application of DUV.

Ստեղծման ամսաթիւը:

2009-04-09

Ձեւաչափ:

pdf

Նոյնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23226

Բնօրինակին գտնուելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան