Object

Title: Оптимизация процесса магнетронного осаждения для формирования качественных, ориентированных пленок ZnO

Publication Details:

Լույս է տեսնում 1966 թվականից՝ տարին 4 անգամ։

Journal or Publication Title:

ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր: Ֆիզիկա = Proceedings of the NAS RA: Physics

Date of publication:

2012

Volume:

47

Number:

4

ISSN:

0002-3035

Official URL:


Other title:

Optimization of magnetron deposition process for formation of high-quality oriented ZnO films

Contributor(s):

Պատ․ խմբ․՝ Գ․ Մ․ Ղարիբյան (1966-1992) ; Գլխ․ խմբ․՝ Վ․ Մ․ Հարությունյան (1993-2021) ; Կ․ Մ․ Ղամբարյան (2022-)

Coverage:

277-287

Abstract:

Исследованы распределение толщины и структура пленок ZnO, осажденных методом DC магнетронного распыления цинковой мишени в среде газов Ar:O2 при температуре подложки 27°C и давлении газов в камере в интервале 5×10–3 – 5×10–2 мм рт.ст. The thickness distribution and structure of ZnO films deposited by DC-magnetron sputtering of a zinc target in argon-oxygen medium at substrate temperature of 27°C and gas pressure within 5×10–3 – 5×10–2 mm Hg in the chamber was investigated.

Publisher:

ՀՀ ԳԱԱ հրատ.

Date created:

2012-07-22

Format:

pdf

Identifier:

oai:arar.sci.am:134416

Call number:

АЖ 415

Location of original object:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Object collections:

Last modified:

May 5, 2025

In our library since:

Apr 21, 2020

Number of object content hits:

33

All available object's versions:

https://arar.sci.am/publication/147749

Show description in RDF format:

RDF

Show description in OAI-PMH format:

OAI-PMH

Objects

Similar

This page uses 'cookies'. More information