Հրապարակման մանրամասներ:
Լույս է տեսնում 1966 թվականից՝ տարին 4 անգամ։
Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:
ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր: Ֆիզիկա = Proceedings of the NAS RA: Physics
Հրապարակման ամսաթիւ:
Հատոր:
Համար:
ISSN:
Պաշտոնական URL:
Վերնագիր:
Այլ վերնագիր:
Optimization of magnetron deposition process for formation of high-quality oriented ZnO films
Ստեղծողը:
Э. Р. Аракелова ; А. М. Хачатрян ; К. Э. Авджян ; А. А. Ктеян
Աջակից(ներ):
Պատ․ խմբ․՝ Գ․ Մ․ Ղարիբյան (1966-1992) ; Գլխ․ խմբ․՝ Վ․ Մ․ Հարությունյան (1993-2021) ; Կ․ Մ․ Ղամբարյան (2022-)
Խորագիր:
Physics ; Science ; Electricity and magnetism
Չվերահսկուող բանալի բառեր:
Arakelova E. R. ; Khachatryan A. M. ; Avjyan K. E. ; Kteyan A. A.
Ծածկոյթ:
Ամփոփում:
Исследованы распределение толщины и структура пленок ZnO, осажденных методом DC магнетронного распыления цинковой мишени в среде газов Ar:O2 при температуре подложки 27°C и давлении газов в камере в интервале 5×10–3 – 5×10–2 мм рт.ст. The thickness distribution and structure of ZnO films deposited by DC-magnetron sputtering of a zinc target in argon-oxygen medium at substrate temperature of 27°C and gas pressure within 5×10–3 – 5×10–2 mm Hg in the chamber was investigated.