Օբյեկտ

Վերնագիր: INFLUENCE OF DEPOSITION RATE ON THE ELECTRICAL AND OPTICAL PROPERTIES OF ELECTRON-BEAM EVAPORATED InSb FILMS

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics

Հրապարակման ամսաթիվ:

2012

Հատոր:

5

Համար:

2

ISSN:

1829-1171

Ծածկույթ:

86-94

Ամփոփում:

Thin films of 300 nm thickness of non-stoichiometric indium antimonide (In0.66Sb0.34) have been deposited with different deposition rate onto well-cleaned glass substrate by electron beam evaporation technique. The electrical resistivity decreases with increasing temperature, showing the semiconducting behavior. Hall measurements indicate that the films were n-type, having carrier concentration ~1018 cm-3 and mobility ~103 cm2/Vs for the film thickness of 300 nm with different deposition rate. Activation energy of the films with deposition rate is determined. The direct band gap has been calculated by Fourier transform infrared absorption spectra recorded at room temperature. The optical band gap varies in the range 0.21–0.23 eV with deposition rate of films.

Ստեղծման ամսաթիվը:

2012-07-11

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23326

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Օբյեկտի հավաքածուներ:

Վերջին անգամ ձևափոխված:

May 19, 2021

Մեր գրադարանում է սկսած:

Feb 27, 2020

Օբյեկտի բովանդակության հարվածների քանակ:

1

Օբյեկտի բոլոր հասանելի տարբերակները:

https://arar.sci.am/publication/26056

Ցույց տուր նկարագրությունը RDF ձևաչափով:

RDF

Ցույց տուր նկարագրությունը OAI-PMH ձևաչափով։

OAI-PMH

Օբյեկտի տեսակ՝

Նման

Այս էջը օգտագործում է 'cookie-ներ'։ Ավելի տեղեկատվություն