Object structure

Հրապարակման մանրամասներ:

Լույս է տեսնում 1948 թվականից՝ տարին 4 անգամ։

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

ՀՀ ԳԱԱ և ՀԱՊՀ Տեղեկագիր. Տեխնիկական գիտություններ =Proceedings of the NAS RA and NPUA: Technical Sciences

Հրապարակման ամսաթիւ:

2019

Հատոր:

72

Համար:

1

ISSN:

0002-306X

Պաշտոնական URL:


Վերնագիր:

Efficient surface passivation of n-type black silicon

Այլ վերնագիր:

N-տիպի սև սիլիցիումի մակերևույթի արդյունավետ պասսիվացումը; Эффективная пассивация поверхности черного кремния n-типа

Ստեղծողը:

G. Y. Ayvazyan ; S. K. Khudaverdyan ; M. S. Lebedev ; A. V. Semchenko

Աջակից(ներ):

Պատ․ խմբ․՝ Ա․ Գ․ Նազարով (1957-1964) ; Մ․ Վ․ Կասյան (1964-1988) ; Ռ․ Մ․ Մարտիրոսյան (1989-2017 ) ; Գլխավոր խմբ․՝ Վ․ Շ․ Մելիքյան (2018-)

Խորագիր:

Electrical engineering; Electronics; Nuclear engineering ; Technology

Չվերահսկուող բանալի բառեր:

Այվազյան Գ. Ե. ; Խուդավերդյան Ս. Խ. ; Լեբեդեվ Մ. Ս. ; Սեմչենկո Ա. Վ. ; Айвазян Г. Е. ; Худавердян С. Х. ; Лебедев М. С . ; Семченко А. В. ; black silicon ; solar cell ; passivation ; reflection ; atomic layer deposition ; hafnium dioxide

Ծածկոյթ:

78-84

Ամփոփում:

Surface recombination losses significantly reduce the efficiency of black silicon (b-Si)for solar cell applications. Surface passivation using suitable dielectric films can minimize these losses. This paper reports the investigation on the passivation properties of the hafnium dioxide (HfO2) film deposited on n-type b-Si surface via the atomic layer deposition method. Մակերևութային վերամիավորման կորուստները զգալիորեն փոքրացնում են սև սիլիցիումի (b-Si) արդյունավետությունը արևային էլեմենտներում կիրառելու համար: Այդ կորուստները կարելի է նվազեցնել՝ մակերևույթը պասսիվացնելով որոշակի մեկուսիչ թաղանթներով: Հետազոտվել են n-տիպի b-Si-ի մակերևույթին ատոմաշերտային նստեցման մեթոդով ստացված հաֆնիումի երկօքսիդի (HfO2) թաղանթի պասսիվացման հատկությունները: Потери, обусловленные поверхностной рекомбинацией, значительно снижают эффективность черного кремния (b-Si) для применения в солнечных элементах. Пассивация поверхности с использованием определенных диэлектрических пленок может минимизировать эти потери. Исследованы пассивирующие свойства пленки диоксида гафния (HfO2), нанесенной на поверхность b-Si n-типа методом атомно-слоевого осаждения.

Հրատարակութեան վայրը:

Երևան

Հրատարակիչ:

ՀՀ ԳԱԱ հրատ.

Ստեղծման ամսաթիւը:

2019-03-03

Տեսակ:

Հոդված

Ձեւաչափ:

pdf

Դասիչ:

АЖ 413

Թուայնացում:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Բնօրինակին գտնուելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան