Օբյեկտ

Վերնագիր: Application of Machine Learning-Based Electrochemical Deposition Models to CMP Modeling

Այլ վերնագիր:

Մեքենայական ուսուցման միջոցով ստեղծված էլեկտրաքիմիական նստեցման մոդելների կիրառումը քիմիա-մեխանիկական փայլեցման մոդելավորման համար; Использование моделей электрохимического осаждения основанных на машинном обучении для моделирования химико-механического полирования

Ծածկույթ:

39-48

Ամփոփում:

Chemical mechanical polishing/planarization (CMP) is the primary process used for modern integrated circuits (IC) manufacturing. Modeling of the post-CMP surface profile is critical for detecting planarity hotspots prior to manufacturing and avoiding fatal failures of chips. Քիմիա-մեխանիկական փայլեցումը/պլանարիզացիան (CMP) հանդիսանում է ժամանակակից ինտեգրալ միկրոսխեմաների արտադրության հիմնական գործընթացը:CMP-ից առաջացած մակերևույթի պրոֆիլի մոդելավորումն ունի վճռորոշ նշանակություն արտադրությունից առաջ չիպերի պլանարության դեֆեկտների, տաք կետերիե (hotspots) ստացման և կրիտիկական խափանումերը բացահայտելու համար: Химико-механическое полирование/планаризация (CMP) - основной процесс, используемый в производстве современных интегральных микросхем. Моделирование профиля поверхности после CMP имеет решающее значение для дефектов планарности, «горячих точек» (hotspots) перед началом производства чипов и выявления их фатальных отказов.

Ձևաչափ:

pdf

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:261605

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

НАН РА. Математические вопросы кибернетики и вычислительной техники=Mathematical problems of computer science

Հրապարակման ամսաթիվ:

2020

Հատոր:

53

ISSN:

2579-2784

Լրացուցիչ տեղեկություն:

Ղուլղազարյան Ռուբեն Գ․, Փիլիպոսյան Դավիթ Գ․, Սհոյան Միսակ Տ․, Ներսիսյան Հայկ Վ., Гулгазарян Рубен Г., Пилипосян Давит Г., Сгоян Мисак Т., Нерсисян Айк В.

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Օբյեկտի հավաքածուներ:

Վերջին անգամ ձևափոխված:

Aug 27, 2020

Մեր գրադարանում է սկսած:

Aug 27, 2020

Օբյեկտի բովանդակության հարվածների քանակ:

0

Օբյեկտի բոլոր հասանելի տարբերակները:

https://arar.sci.am/publication/284835

Ցույց տուր նկարագրությունը RDF ձևաչափով:

RDF

Ցույց տուր նկարագրությունը OAI-PMH ձևաչափով։

OAI-PMH

Այս էջը օգտագործում է 'cookie-ներ'։ Ավելի տեղեկատվություն