Օբյեկտ

Վերնագիր: Magnetron Sputtering Techniques and Their Applications at Gas Sensors Manufacturing

Ստեղծողը:

M. S. Aleksanyan

Տեսակ:

Article

Ամսագրի կամ հրապարակման վերնագիր:

Armenian Journal of Physics

Հրապարակման ամսաթիվ:

2019

Հատոր:

12

Համար:

1

ISSN:

1829-1171

Համատեղ հեղինակները:

Yerevan State University

Ծածկույթ:

62-77

Ամփոփում:

The types of thin film deposition techniques and their differences are presented in this article. The characteristics of magnetron sputtering techniques are thoroughly observed. A review of recent research efforts and developments for the fabrication of semiconductor resistive gas sensors using magnetron sputtering deposition methods, presenting its potential advantages as a materials synthesis technique for gas sensors along with a discussion of their sensing performance are also presented. It can be argued that these advantages are likely to drive increased interest in the use of magnetron sputtering techniques for gas sensor materials over the next decade as the advanced physical vapor deposition (PVD) method.

Ստեղծման ամսաթիվը:

2019-04-06

Նույնացուցիչ:

oai:arar.sci.am:23556

Բնօրինակի գտնվելու վայրը:

ՀՀ ԳԱԱ Հիմնարար գիտական գրադարան

Օբյեկտի հավաքածուներ:

Վերջին անգամ ձևափոխված:

May 19, 2021

Մեր գրադարանում է սկսած:

Feb 27, 2020

Օբյեկտի բովանդակության հարվածների քանակ:

2

Օբյեկտի բոլոր հասանելի տարբերակները:

https://arar.sci.am/publication/26327

Ցույց տուր նկարագրությունը RDF ձևաչափով:

RDF

Ցույց տուր նկարագրությունը OAI-PMH ձևաչափով։

OAI-PMH

Հրատարակության անուն Ամսաթիվ
Magnetron Sputtering Techniques and Their Applications at Gas Sensors Manufacturing May 19, 2021

Օբյեկտի տեսակ՝

Նման

Այս էջը օգտագործում է 'cookie-ներ'։ Ավելի տեղեկատվություն