Publication Details:
Լույս է տեսնում 1966 թվականից՝ տարին 4 անգամ։
Journal or Publication Title:
ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր: Ֆիզիկա = Proceedings of the NAS RA: Physics
Date of publication:
Volume:
Number:
ISSN:
Official URL:
Title:
Электронные фазовые переходы металл–изолятор в широкозонных полупроводниках ZnO
Other title:
Creator:
Н. Р. Агамалян ; Т. А. Асланян ; Э. С. Варданян ; Е. А. Кафадарян ; Р. К. Овсепян ; С. И. Петросян ; А. Р. Погосян
Contributor(s):
Պատ․ խմբ․՝ Գ․ Մ․ Ղարիբյան (1966-1992) ; Գլխ․ խմբ․՝ Վ․ Մ․ Հարությունյան (1993-2021) ; Կ․ Մ․ Ղամբարյան (2022-)
Subject:
Physics ; Science ; Physics of Semiconductors ; Radiophysics
Uncontrolled Keywords:
Աղամալյան Ն. Ռ. ; Ասլանյան Տ. Ա. ; Վարդանյան Է. Ս. ; Կաֆադարյան Ե. Ա. ; Հովսեփյան Ռ. Կ. ; Պետրոսյան Ս. Ի. ; Պողոսյան Ա. Ռ. ; Aghamalyan N. R. ; Aslanyan T. A. ; Vardanyan E. S. ; Kafadaryan Y. A. ; Hovsepyan R. K. ; Petrosyan S. I. ; Poghosyan A. R.
Coverage:
Abstract:
Исследованы электронные фазовые переходы металл–изолятор в широкозонных полупроводниках ZnO. Рассмотрено влияние дефектного комплекса, обусловленного кислородной вакансией и междоузельным атомом цинка, на переход металл–изолятор. Изучены особенности этого перехода в легированных донорной или акцепторной примесью пленках ZnO и влияние вышеуказанного дефектного комплекса на механизм транспорта носителей заряда. Ուսումնասիրված են լայն արգելված գոտիով ZnO կիսահաղորդիչներում մետաղեկուսիչ փուլային անցումները: Դիտարկված է թթվածնի ատոմի թափուրքով և միջհանգուցային ցինկի ատոմով պայմանավորված արատների համալիրի ազդեցությունները մետաղ–մեկուսիչ անցման վրա: Հետազոտված են այդ անցման առանձնահատկությունները դոնորային կամ ակցեպտորային խառնուկներով լեգիրված ZnO թաղանթներում և վերը նշված արատների համալիրի ազդեցությունը լիցքակիրների տեղափոխման մեխանիզմի վրա: Metal–insulator electronic phase transitions in wide-gap ZnO semiconductors have been studied. The influence of defect complex caused by oxygen vacancy and interstitial zinc atom on the metal–insulator transition is considered. The peculiarities of this transition in ZnO films doped with donor or acceptor impurity and the influence of mentioned defect complex on the charge carrier transfer mechanism were investigated.