@misc{Э._Р._Аракелова_Оптимизация,
 author={Э. Р. Аракелова and А. М. Хачатрян and К. Э. Авджян and А. А. Ктеян},
 howpublished={online},
 publisher={ՀՀ ԳԱԱ հրատ.},
 abstract={Исследованы распределение толщины и структура пленок ZnO, осажденных методом DC магнетронного распыления цинковой мишени в среде газов Ar:O2 при температуре подложки 27°C и давлении газов в камере в интервале 5×10–3 – 5×10–2 мм рт.ст. The thickness distribution and structure of ZnO films deposited by DC-magnetron sputtering of a zinc target in argon-oxygen medium at substrate temperature of 27°C and gas pressure within 5×10–3 – 5×10–2 mm Hg in the chamber was investigated.},
 type={Հոդված},
 title={Оптимизация процесса магнетронного осаждения для формирования качественных, ориентированных пленок ZnO},
 keywords={Physics, Science, Electricity and magnetism},
}